Chińskie narzędzia to kapiszon. Europa może spać spokojnie
Mimo iż mówimy o sukcesie, to Chińczycy nadal mają wiele lat zaległości. Zwłaszcza, że ich maszyny nadal opierają się na japońskich podzespołach.
Wczoraj informowaliśmy Was, że Chiny zrobiły kolejny krok w kierunku uniezależnienia się od Zachodu. Państwowa spółka Shanghai Aishengna Electronic Technology Group zaprezentowała własny system litograficzny DUV, przeznaczony do produkcji układów scalonych. Jednak według najnowszych informacji, konstrukcja ta nie stanowi realnej konkurencji dla urządzeń oferowanych przez holenderskie ASML.
Chiny nadal pozostają jednym z największych klientów Holendrów
Nowa maszyna jest skanerem immersyjnym, który podczas naświetlania krzemowych wafli wykorzystuje warstwę wody. Technologia DUV bazuje na świetle o większej długości fali niż znacznie bardziej zaawansowane systemy EUV. Pozwala to uprościć konstrukcję urządzenia, ale jednocześnie ogranicza możliwości produkcji najnowocześniejszych chipów.
Maszyny DUV wykorzystuje się najczęściej do litografii klasy 7 nm i starszych, podczas gdy standardem jest 3 i 2 nm. Możliwe jest produkowanie bardziej zaawansowanych układów, jednak wymaga to wielokrotnego naświetlania. A multi-patterning zwiększa koszty, obniża wydajność linii produkcyjnej i podnosi ryzyko powstawania wadliwych chipów.
To właśnie dlatego chińskie urządzenie nie zagrozi w najbliższym czasie pozycji ASML. Holenderska firma pozostaje monopolistą na rynku najbardziej zaawansowanych maszyn DUV, a także jedynym producentem systemów EUV wykorzystywanych przez TSMC, Intela, Samsunga i innych.
Co ciekawe, Chiny nadal są jednym z najważniejszych klientów ASML. W pierwszej połowie 2026 roku odpowiadały za 16% przychodów firmy, czyli około 2,6 miliarda euro. Był to trzeci największy rynek holenderskiego producenta, zaraz po Tajwanie i Korei Południowej.
Oczywiście Pekin pracuje również nad własnymi maszynami EUV, w których rozwój ma być zaangażowany m.in. Huawei. Według wcześniejszych zapowiedzi ich seryjna produkcja mogłaby rozpocząć się około 2030 roku. Dopiero osiągnięcie tego celu pozwoliłoby Chinom realnie podważyć technologiczną przewagę ASML.
