Chiny z przełomem. Jest pierwszy prototyp maszyny EUV
Eksperci są zaskoczeni, bo Państwo Środka dzięki miliardowym inwestycjom i szpiegostwu przemysłowemu wyprzedza wcześniejsze założenia.
Chiny od kilku lat konsekwentnie dążą do przełomu w litografii EUV, próbując nadrobić dystans do Zachodu mimo sankcji i ograniczonego dostępu do kluczowych technologii. Firmy takie jak SMIC miały w tym czasie podejmować próby odtworzenia rozwiązań ASML poprzez analizę starszych maszyn i pozyskiwanie doświadczonych inżynierów. Teraz pojawiają się informacje sugerujące, że te wysiłki zaczynają przynosić realne efekty.
TSMC, Samsung i Intel mogą zyskać wreszcie realną konkurencję
Jak donosi agencja Reuters, Chińczycy opracowali prototyp maszyny EUV, który jest w pełni operacyjny i potrafi generować promieniowanie ultrafioletowe wykorzystywane w procesie trawienia wafli krzemowych. Choć brzmi to jak technologiczny przełom, sytuacja jest bardziej złożona.
Prototyp nadal bazuje na komponentach pochodzących ze starszych urządzeń holenderskiego ASML, a sama konstrukcja nie została jeszcze użyta do pełnego procesu produkcji chipu. Mimo to tempo postępów ma zaskakiwać nawet ekspertów branży.
Maszyny EUV należą do najbardziej skomplikowanych urządzeń, jakie kiedykolwiek stworzono dla przemysłu półprzewodników. Na ten moment nie wiadomo, jaką dokładnie metodę zastosowali chińscy inżynierowie ani jak wygląda kluczowy element systemu, czyli źródło światła.
Pewne jest natomiast, że prototyp nie doprowadził jeszcze do tak zwanego tape-outu, czyli finalnego przygotowania układu do produkcji. Mimo tych ograniczeń źródła twierdzą, że Chiny mogą doprowadzić technologię EUV do etapu masowego wykorzystania już około 2030 roku, znacznie szybciej niż zakładały wcześniejsze prognozy.
Ogromnym motorem napędowym jest wyścig o miano lidera sztucznej inteligencji. Zapotrzebowanie na własne akceleratory AI w Chinach gwałtownie wzrosło, a firmy takie jak Huawei intensywnie poszukują mocy produkcyjnych, rozwijając sieć fabryk we współpracy z SMIC.
